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副反射面的位姿调整量的确定方法、位姿调整方法及装置
项斌斌; 王娜; 连培园; 段宝岩; 王从思; 王伟; 胡乃刚; 薛飞; 古丽加依娜; 许谦
2019-09-02
Patent NumberZL201910822316.1
Copyright Date2022-07-08
Rights Holder中国科学院新疆天文台
Country中国
Subtype发明专利
Contribution Rank1
Certificate Number证书号 第5287555号
Status已授权
Application NumberCN201910822316.1
Application Date2019-09-02
Open (Notice) NumberCN110531379A
Date Available2019-12-03
Abstract本申请提供一种副反射面的位姿调整量的确定方法、位姿调整方法及装置,应用于双反射面天线,双反射面天线包括主反射面和副反射面,副反射面的位姿调整量的确定方法包括:获得口径面的光程误差分布,其中,口径面与主反射面的口径对应;对光程误差分布进行拟合,确定出拟合结果;根据预设的整体对应关系和拟合结果,确定出副反射面的位姿调整量,其中,整体对应关系为副反射面的偏移量与拟合结果之间的对应关系。基于光学像差理论对双反射面天线中主反射面光程差的分布特征进行分析,获得拟合结果,并根据副反射面的偏移量与拟合结果的关系,可以高效准确地确定出副反射面的位姿调整量,从而能够补偿双反射面天线结构变形带来的影响。
Claim1.一种副反射面的位姿调整量的确定方法,其特征在于,应用于双反射面天线,所述双反射面天线包括主反射面和副反射面,所述方法包括: 获得口径面的光程误差分布,其中,所述口径面与所述主反射面的口径对应; 对所述光程误差分布进行拟合,确定出拟合结果; 根据预设的整体对应关系和所述拟合结果,确定出所述副反射面的位姿调整量,其中,所述整体对应关系为所述副反射面的偏移量与所述拟合结果之间的对应关系。 2.根据权利要求1所述的副反射面的位姿调整量的确定方法,其特征在于,对所述光程误差分布进行拟合,确定出拟合结果,包括: 采用Zernike多项式对所述光程误差分布进行拟合,确定出Zernike系数,其中,所述Zernike系数表示所述拟合结果。 3.根据权利要求2所述的副反射面的位姿调整量的确定方法,其特征在于,所述整体对应关系包括像差对应关系和偏移量对应关系,根据预设的整体对应关系和所述拟合结果,确定出所述副反射面的位姿调整量,包括: 根据所述像差对应关系和所述Zernike系数,确定出初级波前像差,其中,所述像差对应关系为Zernike系数与赛德尔像差之间的对应关系,所述赛德尔像差中包括所述初级波前像差; 根据所述偏移量对应关系和所述初级波前像差,确定出所述副反射面的位姿调整量,其中,所述偏移量对应关系为所述副反射面的偏移量与初级波前像差之间的对应关系。 4.根据权利要求3所述的副反射面的位姿调整量的确定方法,其特征在于,根据预设的偏移量对应关系和所述初级波前像差,确定出所述副反射面的位姿调整量,包括: 根据所述偏移量对应关系和所述初级波前像差,确定出所述副反射面的偏移量; 根据所述副反射面的偏移量,确定出所述副反射面的位姿调整量。 5.根据权利要求4所述的副反射面的位姿调整量的确定方法,其特征在于,根据所述偏移量对应关系和所述初级波前像差,确定出所述副反射面的偏移量,包括: 确定出所述初级波前像差中的球面像差和离焦像差; 根据所述偏移量对应关系,以及所述球面像差和所述离焦像差,确定出所述副反射面的轴向偏移量。 6.根据权利要求4所述的副反射面的位姿调整量的确定方法,其特征在于,根据所述偏移量对应关系和所述初级波前像差,确定出所述副反射面的偏移量,包括: 确定出所述初级波前像差中的倾斜像差和彗差像差; 根据所述偏移量对应关系,以及所述倾斜像差和所述彗差像差,确定出所述副反射面的横向偏移量和/或倾斜偏移量。 7.一种副反射面位姿调整方法,其特征在于,应用于双反射面天线,所述双反射面天线包括主反射面和副反射面,所述方法包括: 获取由权利要求1至6中任一项所述的副反射面的位姿调整量的确定方法确定出的所述副反射面的位姿调整量; 根据所述位姿调整量,生成控制指令,以使副反射面调整机构基于所述控制指令调整所述副反射面的位姿。 8.一种副反射面的位姿调整量的确定装置,其特征在于,应用于双反射面天线,所述双反射面天线包括主反射面和副反射面,所述装置包括: 光程误差获得模块,用于获得口径面的光程误差分布,其中,所述口径面与所述主反射面的口径对应; 光程误差拟合模块,用于对所述光程误差分布进行拟合,确定出拟合结果; 调整量确定模块,用于根据预设的整体对应关系和所述拟合结果,确定出所述副反射面的位姿调整量,其中,所述整体对应关系为所述副反射面的偏移量与所述拟合结果之间的对应关系。 9.一种副反射面的位姿调整装置,其特征在于,应用于双反射面天线,所述双反射面天线包括主反射面和副反射面,所述装置包括: 调整量获取模块,用于获取由权利要求1至6中任一项所述的副反射面的位姿调整量的确定方法确定出的所述副反射面的位姿调整量; 副反射面调整模块,用于根据所述位姿调整量,生成控制指令,以使副反射面调整机构基于所述控制指令调整所述副反射面的位姿。 10.一种存储介质,其特征在于,所述存储介质存储有一个或者多个程序,所述一个或者多个程序可被一个或者多个处理器执行,以实现如权利要求1至6中任一项所述的副反射面的位姿调整量的确定方法的步骤,或者实现如权利要求7所述的副反射面的位姿调整方法的步骤。
ClassificationG01S19/01
Language中文
IPC Classification NumberG01S19/01
Patent Agent谢玲
Agency北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)11463
Document Type专利
Identifierhttp://ir.xao.ac.cn/handle/45760611-7/5190
Collection射电天文研究室_微波技术实验室
Affiliation中国科学院新疆天文台
First Author AffilicationXinjiang Astronomical Observatory, Chinese Academy of Sciences
Recommended Citation
GB/T 7714
项斌斌,王娜,连培园,等. 副反射面的位姿调整量的确定方法、位姿调整方法及装置. ZL201910822316.1[P]. 2019-09-02.
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2019108223161_发明专利授权(1681KB)专利 开放获取CC BY-NC-SAApplication Full Text
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发明专利证书ZL201910822316(1302KB)专利 开放获取CC BY-NC-SAApplication Full Text
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